福州黄铜镀镍处理

化学镀镍技术时现在金属制品表面使用比较多的一种镀层工艺，化学镀镍工艺能够使金属制品表面更加美观的同时也更加的耐用。那么化学镀镍有哪些技术优点呢？ 1、以次磷酸钠为还原剂时，由于有磷析出，发生磷与镍的共沉积，所以化学镀镍层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层，镀层中磷的质量分数为1%～l5%，控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔，耐蚀性远优于电镀镍。以硼氢化物或氨基硼烷为还原剂时，化学镀镍层是镍硼合金镀层，硼的含量为1%～7%。只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层，含镍量可达到99.5%以上。 2、硬度高、耐磨性良好。电镀镍层的硬度*为l60～180HV，而化学镀镍层的硬度一般为400～700HV，经适当热处理后还可进一步提高到接近甚至超过铬镀层的硬度，故耐磨性良好，更难得的是化学镀镍层兼备了良好的耐蚀与耐磨性能。 3、化学镀镍阐述化学稳定性高、镀层结合力好。在大气中以及在其他介质中，化学镀镍层的化学稳定性高于电镀镍层的化学稳定性。与通常的钢铁、铜等基体的结合良好，结合力不低于电镀镍层和基体的结合力。 4、由于化学镀镍层含磷(硼)量的不同及镀后热处理工艺的不同，镀镍层的物理化学特性，如硬度、抗蚀性能、耐磨性能、电磁性能等具有丰富多彩的变化化学镀镍在工业领域很多应用的原因是什么？福州黄铜镀镍处理

化学镍的退镀方法：如果化学镍表面还有铬等镀层，比较好用盐酸先退镀铬等镀层，再进行化学镍的退镀，因为一般来讲，化学镍的专业退镀***只能退镀化学镍镀层，而对其他镀层退镀效果不是很好。.如果想退镀化学镍镀层而不伤到基材，请选择专门的退镀***。因为一般自配的***可能或多或少对基材有一定的损伤，而专业的***是可以做到对特定的基材不损伤的。一般铜基材的化学镍退镀后，会在铜基材表面形成棕色或者黑色的膜，需要用**(50-100克/升)或者铬酸(约50克/升)除去。化学镍的退镀速率跟镀层磷含量高低和是否经过热处理有关，一般是含磷量高、经过热处理的工件，退镀速率要慢些。一般高磷化学镍的退镀都需要在高温、高pH条件下进行。因此，化学镍的退镀药液比较好能够在带盖的槽内进行，防止退镀液过快蒸发而损失有效成分。同时有效的温度控制装置是有益的，保证退镀效率会在一定的范围之内。当然了，如果有相应的分析以补加消耗的成分，对保持持续的退镀效率将有很大的帮助。

漳州铝合金镀镍加工厂化学镀镍的工艺要求是什么？

不用外来电流，借氧化还原作用在金属制件的表面上沉积一层镍的方法。用于提高抗蚀性和耐磨性，增加光泽和美观。适合于管状或外形复杂的小零件的光亮镀镍，不必再经抛光。一般将被镀制件浸入以硫酸镍、次磷酸二氢钠、乙酸钠和硼酸所配成的混合溶液内，在一定酸度和温度下发生变化，溶液中的镍离子被次磷酸二氢钠还原为原子而沉积于制件表面上，形成细致光亮的镍镀层。钢铁制件可直接镀镍。锡、铜和铜合金制件要先用铝片接触于其表面上1-3分钟，以加速化学镀镍。化学镀就是在不通电的情况下，利用氧化还原反应在具有催化表面的镀件上，获得金属合金的方法。它是新近发展起来的一门新技术。

镀锌、镀镍和镀铬三种电镀比较基本的区别：1、镀铬主要是提高表面硬度，美观，防锈。铬镀层具有良好的化学稳定性，在碱、硫化物、硝酸和大多数有机酸中均不发生作用，但能溶于氢卤酸(如盐酸)和热的硫酸中。 因铬不变色，使用时能长久保持其反射能力而优于银和镍。 工艺一般都是电镀。2、镀镍主要是耐磨，防腐蚀，防锈，一般厚度较薄，工艺的话分电镀和化学两类。 3、镀锌主要是美观 防锈。zn是活泼金属，能与酸反应，所以耐腐蚀性较差,是三种中比较便宜的。

化学镀镍的特点是什么？

无电解镀镍与电镀镍有什么区别？ 无电解镀镍与电镀镍之间的区别，主要就是是否需要通电的区别，另外，其在性能和强度等方面也有一些区别。 一、工艺不同。表现在镀镍是在外加电源（一般是开关电源，也有脉冲电源）的情况下沉积镍层的；而无电沉镍是不需要外加电源，依靠自身的催化性能和还原剂的共同作用下，将镍离子从相应的盐液中沉积出来的。 二、镀液的配方不同。镀镍的配方中都无还原剂，而沉积镍的配方中必须有还原剂。 三、镀层的性能及成份不同。镀镍的镀层都是纯镍，当然也有少量的其它成份，可以认为是镀液中的杂质影响。这种镀层在碱性条件下的耐腐能力很好，其他情况下较差；沉积镍的镀层基本上都是合金镀层，但也有纯度很高的镍层（与还原剂、络合剂有关），这种配方用的太少，不是主流。其镀层的耐腐能力很好比电镀镍的镍层好的多。电镀镍和化学镀镍的有什么不同？三明铝合金镀镍

化学镀镍的运用领域有哪些？福州黄铜镀镍处理

通常铜导体图形是采用以次亚磷酸盐作还原剂化学镀镍，而铜与次亚磷酸氧化反应是没有催化活化行为的，这就需要采用钯作为催化剂。该工艺方法就是将基板浸入稀的钯溶液，当铜导体图形上浸有催化剂钯后，就可以实施化学镀镍的工艺程序。但是，对于高密度配线的基板该工艺方法是否适用，还要看对钯催化剂的选择，因为当基板浸入催化溶液时，导体图形间的树脂上也会同时吸附，化学镀镍过程中会沉积在图形间的树脂上面，这样一来就会产生质量问题。 这就需要解决选择性析出的技术问题，铜导体经过催化活化，采用还原剂为DMAB(二甲胺化硼)和稀的化学镀镍溶液，确认其选择性沉积是有效的。 另外，经过化学镀镍＋金的电镀处理的基板，与电镀法镀出的镀层相比，其焊接强度就比较低。其主要原因是由镍粒子粒界被腐蚀***，镍层中的富磷层形成以及锡-镍-磷合金层的形成。现在的问题是对镍层中含磷量的含有率控制，使过程中不会产生局部腐蚀，具有适用性的工艺对策是有效的。福州黄铜镀镍处理

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